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三星冲刺1nm工艺2029年将推出革命性AI芯片
2025年4月10日,三星电子在一份最新的公告中透露,该公司正在全力推进其“梦想制程”1...
2025-07-06 阅读(823) 标签:纳米制造技术 -
突破性铋基二维材料芯片:中国科技创新开启无硅时代
近日,北京大学研究团队在新型芯片材料领域取得重大突破,发表于《自然材料》的研究成果展示了...
2025-07-06 阅读(777) 标签:纳米制造技术 -
国产光刻机逆袭:技术突破 + 订单暴增股价或迎翻倍行情
光刻机作为半导体制造的核心利器,堪称 “现代科技皇冠上的明珠”,它承载着芯片制造的关键环节,以超精密的纳米工艺,引领着电子产业迈向更微小、更强悍的未...
2025-07-06 阅读(975) 标签:半导体光刻技术 -
矽电股份:光刻机技术的新突破与市场化前景解析
K8凯发官方网站K8凯发官方网站 随着科技的不断进步,光刻机这一关键设备在半导体行业的重要...
2025-07-06 阅读(567) 标签:半导体光刻技术
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2025年中国光刻胶行业发展现状与未来展望 07-06
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三星锁定1纳米工艺2029年量产目标悬念颇多 07-06