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中国EUV光刻光源技术破冰 打破美企垄断迎来关键转折
中国在极紫外(EUV)光刻核心技术领域取得历史性突破。2025年4月,中国科学院上海光学...
2025-07-06 阅读(679) 标签:半导体光刻技术 -
高端芯片技术的发展历程:从微米到纳米的算力革命
未来产业涵盖了 6 个大的产业方向,范围广泛,涉及众多领域。为了帮助地方政府和企业在研究...
2025-07-05 阅读(874) 标签:纳米制造技术 -
上海光机所EUV光刻技术获重大突破不再被美国“卡脖子”
K8凯发 上海光机所在EUV光刻技术领域取得重大突破,国产芯片制造有望摆脱对国外技术的依赖...
2025-07-05 阅读(608) 标签:半导体光刻技术
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光刻工艺流程示意图:半导体制造的核心环节 07-12
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半导体工艺全解析光刻工艺的关键与难点 07-12
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