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中国突破技术封锁!国产光刻机迎来曙光!
发布于 2025-07-11 22:30 阅读()
虽然目前能量转化效率3.42%的数字看似普通,但这已经达到国际领先水平,且理论极限有望突破6%。
更关键的是,这项技术完全绕开了美国主导的技术路线,为中国自主研发光刻机开辟了新航道。
这位曾在ASML担任研发科学家的专家,不仅师从诺贝尔物理学奖得主,更手握110余项国际专利。
他的团队去年刚刚创下极紫外光转化效率52.5%的世界纪录,如今又在关键领域再下一城。
当前最先进的手机芯片需要在硅片上雕刻出5纳米级别的电路,这需要EUV光刻机才能实现。由于美国的技术封锁,中国企业长期被排除在这项尖端技术之外。
如今自主光源技术的突破,相当于在芯片制造的最后一道关卡撕开了突破口。
ASML高管近日不得不承认:中国确实有可能造出EUV光源。这家光刻机巨头2024年对华销售额突破百亿欧元,占其全球营收的36%,却始终被禁止向中国出售最先进设备。
这种既要赚钱又要封锁的做法,正面临中国技术突破的强烈冲击。
自2019年美国实施出口管制以来,中国半导体行业在卡脖子中艰难前行。
如今固态激光器技术不仅体积更小、成本更低,其千瓦级功率输出更展现出巨大潜力。
虽然距离商用还有距离,但已为国产EUV光刻机点亮了希望之光。
正如ASML首席财务官所言,造出光源只是第一步,整合成完整的光刻机仍需时日。
但中国科学家用实践证明:在半导体这个全球科技竞技场上,封锁从来挡不住创新的脚步。
为伟大的祖国点赞!为中国科研人员坚持不懈的努力不断的创造奇迹点赞![赞][赞][赞][赞][赞]
当瓦级功率的极紫外光划破技术封锁的阴霾,中国芯片产业正迎来破晓时分。[祈祷][祈祷][祈祷]
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