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　　当中国成功开发光刻机技术的那一天，全世界的供应商都要为之承受巨大的压力。

　　他们清楚地知道，中国已经斥资了3440亿元，正在全力冲刺，争取早日掌握光刻机技术。

　　而对此，日媒已经提前感到害怕和忧心忡忡了，因为中国可以利用自己高效率的工业生产方式，将高端芯片给打成白菜价。到时候，ASML将不再具有性价比，面临着被取代的风险。

　　该项目主要用于促进国家集成电路产业的发展，尤其会聚焦于那些目前正被美西方集团卡脖子的环节，比如：光刻机、芯片软设计软件等等。试图通过这样的项目，来加快推动我国半导体产业的自主可控与国产化替代。K8凯发官方网站

　　由于该项目的注册资本多达3440亿元人民币，同时还有望撬动上亿民间资本，因此其自成立之初就备受外国媒体的关注。

　　而就在今年的7月16日，日本《日经亚洲》媒体便刊文表示，一旦中国在该项目取得成功的话，将可能撼动荷兰asml公司在全球光刻机市场的主导地位。

　　毕竟在过去，中国每突破一个技术成就，该技术产品很快就会变为白菜价，让生产这些技术产品的公司利润大为削减。

　　当时中国的半导体产业整体水平还相当不发达，处于一个比较稚嫩的初始发展阶段，美西方国家也还没有开始进行制裁和封锁。

　　所以这第1期的资金主要被用在了集成电路的制造上，很多钱都分给了各个产业链环节里的龙头企业。通过这样的方式来帮助这些龙头企业快速发展，并最终带动整个半导体产业的发展。

　　故而，本期投资的很多资金都被集中用在了一些短板明显的上游设备和材料上，希望借此让整个半导体产业链变得更加自主可控。

　　此时美西方集团对我国半导体产业的制裁和封锁，已经变得更加精准了，开始着重去制裁这个行业的一些高精尖技术。

　　也正因为如此，本次第3期的资金会集中用于重点扶持这些高精尖技术的发展，而光刻机很明显就是其中之一。

　　光刻机被视为是世界上最为精密的机器之一，也是当前全球半导体制造中最为关键的一个精密设备。

　　而在这一领域的龙头企业就是荷兰的asml公司，其目前是euv光刻机领域中的唯一供应商。

　　光刻机的分辨率在很大程度上，决定了所制造出来的芯片制程是否足够先进。荷兰asml公司所拥有的EUV光刻机，是当前世界上实现7nm以下先进制程的唯一设备。

　　也正因为如此，美西方国家方才利用自身在高端光刻机上的垄断地位，将其化身为一项卡脖子技术，来借此遏制中国半导体产业的发展。

　　比方说，我国目前只能勉强实现90nmDUV光刻机的量产，而28nm的光刻机则方才进入产线验证而已。

　　相比之下，美西方国家借助荷兰asml公司的EUV光刻机，能够实现7nm以下先进进程芯片的量产。

　　不过，虽然整体的差距依旧很大，但我国也确实在大基金三期巨额资金的投入下正在加快追赶中，并且在部分关键领域得以实现突破。

　　也就是说这三千多亿投入进去，从目前来看还是产生了一定水花的。但若是想要靠着三千多亿，就直接实现高端光刻机技术的突破，这有点不太实际。

　　鉴于在过去相当长时间内，美西方国家的光刻机技术也没有实现突破性的进展，故而我国可以放下心来，慢慢赶超，一点都不用着急。

　　只要时间足够长，且美西方国家坚持不卖给中国的话，那么中国实现弯道超车，相信只不过是一个时间问题而已。

　　还有现在需要用到7nm以下高端芯片的产品寥寥无几，只有在AI领域里用得相对比较普遍。

　　甚至说28nm以下制程的芯片，所能够应用的产品，也并不多。我们所常见的大多数电子产品，都是只需要使用28nm以上的芯片就可以。

　　这也就意味着，只要本次大基金三期资金的投入，能够帮助国内半导体产业实现28nm光刻机量产的话，就已经完全足够了。

　　单从数字上看，大基金三期所投入的三千多亿资金，确实是一笔很大的投入，足够中国整个半导体产业，未来几年去慢慢挥霍。

　　未来，我国想要真正掌控高端光刻机技术，光靠大基金三期投资是难以做到的，还要有四期、五期乃至更多的投资。