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国产光刻机取得突破?日媒:中国或成荷日后第三个能独立制造
日本权威媒体《日经亚洲》在2025年7月发布重磅报道指出,中国极有可能成为继荷兰、日本之...
2025-12-08 阅读(671) 标签:半导体光刻技术 -
开悦半导体取得一种环境控制等级分区的涂胶显影机专利精密控制区域与光刻胶区域间互不影响
国家知识产权局信息显示,合肥开悦半导体科技有限公司取得一项名为“一种环境控制等级分区的涂...
2025-12-07 阅读(668) 标签:半导体光刻技术 -
美国撕破脸抢光刻权!15亿投2纳米激光器国产替代必须冲?
1.5亿美元,目标直指一家名不见经传的公司xLight——这家专注于EUV光刻核心激光器...
2025-12-07 阅读(915) 标签:半导体光刻技术
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颠覆性技术有望改变未来五年尖端芯片制造方式 07-14
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国内首条二维半导体工艺线纳米芯片 07-10
