行业动态

被遗忘的三线传奇：中国光刻机曾与世界并肩为何痛失先机？
　　凯发k8凯发k8 　　当我们今天为芯片自主研发奋力攻坚时，很少有人知道，半个多世纪前的中国山沟...
2025-12-10 阅读（974）标签：半导体光刻技术
从无到优：中国光刻机双线破局或成为第三个可独立制造的国家
　　k8凯发集团k8凯发集团　　在全球半导体产业中，光刻机无疑至关重要，长期被少数国家紧握手中，...
2025-12-09 阅读（821）标签：半导体光刻技术
14nm级纳米压印光刻模板2027年量产
　　大日本印刷株式会社（DNP）今日宣布，成功研发出一款电路线nm的纳米压印光刻（NIL）模板。该新型模板可实现相当于1.4纳米制程的逻辑半导体图形化，...
2025-12-09 阅读（818）标签：半导体光刻技术
一个IC独角兽的诞生：佛山半导体“反向”价值重估
　　　　自主研发的超快激光微纳加工设备，以其媲美进口设备的性能却近乎腰斩的成本，打破了海外巨头垄...
2025-12-09 阅读（742）标签：半导体光刻技术
荷兰宣布光刻机新规！引全球芯片业“震动”中国芯片迎来新机遇
　　10月31日，路透社报道指出，荷兰针对光刻机的技术封锁再度收紧。根据其2025年生效的新规，ASML向中国出口关键DUV设备已被明确禁止，管制范围也...
2025-12-09 阅读（721）标签：半导体光刻技术