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晶圆“吸氧”提升光刻效率imec 展示最新研究成果IT之家 2 月 28 日消息，半导体光刻图案化的核心步骤是根据所需电路结构用光线照射涂...
2026-03-02 阅读（973） 标签：半导体光刻技术 -
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形势很严峻！中国光刻机全球份额仅02%自给率不到1%光刻机，对于中国半导体产业而言，绝对是所有半导体设备中，最重要的设备，没有之一。 ...
2026-03-01 阅读（1016） 标签：半导体光刻技术 -
荷兰半导体专家：ASML花费40年钻研光刻机中国企业竟比ASML还狠上世纪六十年代，美国半导体产业刚起步，那时候芯片还挺简单，晶体管数量不多，对光刻机的要求...
2026-03-01 阅读（593） 标签：半导体光刻技术 -
阿斯麦新一代EUV光刻机量产在即摩尔定律迎来救世主？
当台积电宣布3nm工艺良率突破80%时，业内都在追问同一个问题：芯片制程的极限究竟在哪里...
2026-02-28 阅读（881） 标签：半导体光刻技术
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恒坤新材：ArF光刻胶预计年内至2027年H1取得产业化进展直击业绩会 TOP1 -
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