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晶圆“吸氧”提升光刻效率imec 展示最新研究成果
IT之家 2 月 28 日消息,半导体光刻图案化的核心步骤是根据所需电路结构用光线照射涂...
2026-03-02 阅读(933) 标签:半导体光刻技术 -
形势很严峻!中国光刻机全球份额仅02%自给率不到1%
光刻机,对于中国半导体产业而言,绝对是所有半导体设备中,最重要的设备,没有之一。 ...
2026-03-01 阅读(950) 标签:半导体光刻技术 -
荷兰半导体专家:ASML花费40年钻研光刻机中国企业竟比ASML还狠
上世纪六十年代,美国半导体产业刚起步,那时候芯片还挺简单,晶体管数量不多,对光刻机的要求...
2026-03-01 阅读(545) 标签:半导体光刻技术 -
阿斯麦新一代EUV光刻机量产在即摩尔定律迎来救世主?
当台积电宣布3nm工艺良率突破80%时,业内都在追问同一个问题:芯片制程的极限究竟在哪里...
2026-02-28 阅读(819) 标签:半导体光刻技术
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