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中国EUV光刻光源技术破冰 打破美企垄断迎来关键转折
中国在极紫外(EUV)光刻核心技术领域取得历史性突破。2025年4月,中国科学院上海光学...
2025-07-06 阅读(739) 标签:半导体光刻技术 -
上海光机所EUV光刻技术获重大突破不再被美国“卡脖子”
K8凯发 上海光机所在EUV光刻技术领域取得重大突破,国产芯片制造有望摆脱对国外技术的依赖...
2025-07-05 阅读(665) 标签:半导体光刻技术
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2026年国际光掩模企业进展盘点 04-03

