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　　在芯片产业中，有一种设备堪比经济领域中的“印钞机”，其价值不仅巨大，而且远超印钞机本身——这便是光刻机。

　　放眼全球，唯一能够制造出最先进光刻机的公司，便是荷兰的阿斯麦（ASML）。中国的中芯国际曾为获得一台EUV光刻机苦等多年，然而始终未能如愿。

　　荷兰公司甚至曾言：“即便将图纸交给中国，也无法制造出光刻机。”这让人不禁好奇：难道光刻机的制造比原子弹还困难吗？为什么荷兰人敢如此自信？

　　“造得了原子弹，却造不出光刻机？”这一言论在许多人中引发了广泛的讨论。许多人认为，早年我们一穷二白，依靠坚定不移的决心突破了核武器技术的困境；而如今，国力日益强盛，科技进步日新月异，光刻机这种设备难道我们就无法攻克吗？

　　然而，原子弹和光刻机的制造过程本质上有着显著的区别。为了形象地描述这一点，可以说：原子弹的突破依赖于顶尖科学家的努力，而光刻机的制造却需要全国上下的共同奋斗。

　　回顾当年我国研制原子弹的历程，最为关键的环节便是寻找制造原子弹的原料——铀235。铀235在自然界中极为稀有，但其特性却异常特殊。当铀235受到强烈撞击时，它会自发分裂成多个更小的原子，并释放出高速粒子。这些粒子继续撞击其他铀235原子，产生连锁反应，释放出巨大的能量。能否找到铀235，几乎决定了原子弹的制造成败。

　　尽管铀235的获取极为困难，但这仅是原子弹制造的第一步。上世纪50年代，全球市场上每千克铀235的价格达到了1600万美元，按当时中国的年GDP计算，根本无法承担其费用。更糟糕的是，铀矿的开采和贸易高度集中于少数几个国家，如南非、美国、加拿大等，这使得中国想进口铀235几乎成了不可能完成的任务。

　　因此，我国不得不组建了大量铀矿勘探队，深入大西北、东北边境等地区，开展艰苦的勘探工作。终于，在华中地区找到了铀235的矿藏，为后续的原子弹制造奠定了基础。

　　但即便如此，铀235的提纯过程依然复杂且危险。经过一系列精密加工后，原子弹的生产仍然充满了巨大风险。制造过程中，铀235的不稳定性要求每一步都要极其小心，稍有差池便可能酿成灾难。

　　相比之下，光刻机的制造看似更加安全，但其对精度和工艺的要求却远超原子弹的研制水平。光刻机，正式名称为“掩模对准曝光机”，虽然名字平淡无奇，但其技术内涵和细节却异常复杂，涉及的领域几乎涵盖了现代科技的所有前沿技术。

　　光刻机是制造高精度集成电路的核心设备，它能将设计好的电路图案通过光刻技术转印到硅片上，从而制造出高精度的芯片，被誉为“现代工业的奇迹”。而光刻机的商业价值，甚至超过了印钞机。如今，全球最先进的光刻机只有荷兰的阿斯麦能够生产，而每年生产的最先进的EUV光刻机数量也仅有20台左右。

　　为了争夺这20台EUV光刻机，中国台湾的台积电、韩国的三星等企业都争得头破血流，而中国的中芯国际，尽管等待了近十年，却始终未能得到一台具备世界顶尖水准的光刻机。

　　面对芯片封锁的困境，中国曾与荷兰的阿斯麦公司进行谈判，试图打破这一技术壁垒。然而，荷兰公司却坚决拒绝，甚至宣称：即使给我们图纸，中国也造不出光刻机。那么，荷兰人真的是言之有理吗？

　　上世纪80年代，荷兰的阿斯麦公司还是一家小型企业，隶属于工业巨头利物浦集团。当时，公司仅有30多名员工，办公环境简陋，条件极为艰苦。然而，正是这群人怀揣着将光刻机打造出来的梦想，不断迎难而上，最终成就了今天的辉煌。

　　在那个时代，芯片制造工艺的精度还局限于微米级，世界上的半导体巨头如日本的尼康和美国的GCA都在光刻机领域占据了重要位置。尼康公司凭借其精湛的技术，仅用了三年时间便成功拿下了英特尔、AMD等大型厂商的订单。

　　然而，尼康在21世纪初却迅速衰退。与阿斯麦采用全球供应零部件的合作模式不同，尼康始终坚持独立研发，其光刻机制造技术受到自家资源的限制。到了1990年代，光刻机的精度瓶颈限制了技术的突破——在193纳米这一参数上，全球无人能超越。

　　如何突破这一瓶颈成为了所有半导体企业的关注重点。当时，尼康的做法是稳步推进，不断精雕细琢；而阿斯麦则采取了更为激进的极紫外（EUV）技术，突破了这一精度限制。EUV技术利用极短波长的紫外光，能够实现10纳米以下芯片的制造。

　　这一切的背后，正是台积电工程师林本坚提出的“沉浸式光刻”技术。虽然这一方案简单，基于光的折射原理，但当时全球的半导体企业对其并不看好，甚至劝林本坚不要插手。然而，阿斯麦却敏锐地察觉到这一技术的潜力，并在2004年成功研制出了第一台样机，成为了光刻机领域的领军企业。

　　但即便如此，光刻机技术的更新换代速度极快，任何一项新的突破都需要时间的积累。而阿斯麦之所以能说出“给中国人图纸，中国人也造不出光刻机”，正是因为这项技术的成功积累，涉及了光源、透镜、反射镜、真空环境配置、防护膜等数十年技术的沉淀。

　　阿斯麦的崛起背后，除了自身技术积累外，美国政府的支持也至关重要。美国联合了全球多个盟国，共同资助阿斯麦的研发，并要求其提供美国技术的部分转让。更重要的是，光刻机的关键部件，大约55%的零部件必须来自美国供应商。

　　如果中国真的获得了EUV光刻机的图纸，获取核心材料和零部件将是一个无法逾越的障碍。例如，生产EUV光刻机核心部件——大功率光源的公司，只有美国的CYM公司能提供，全球范围内其他公司都无法制造这种高精度设备。

　　因此，荷兰人所说的并非完全空穴来风，制造出EUV光刻机并非易事。但制造普通光刻机并不困难，荷兰人这番话虽然在某种程度上成立，但也不能全盘否定中国的进步。事实上，中国在光刻机技术上的突破正在逐步推进，未来可期。

　　在2021年，中国的上海微电子宣布成功研发出了28纳米光刻机，尽管这款机器未能通过最终的验收，但我国光刻机技术的进步依然显著。目前我国的光刻机水平已达到90纳米，正在朝着更先进的28纳米甚至14纳米技术迈进。

　　实际上，中国完全有能力研制出自主的光刻机。上世纪60年代，清华大学的徐端颐教授曾带领团队开始研制光刻机，虽然当时外界封锁严密，且没有任何外部技术资料，徐端颐的团队依旧从零开始，成功制造出我国第一台光刻机。

　　1971年，我国的第一台国产光刻机问世。经过不懈努力，1980年我国第二代光刻机达到了0.8微米的精度，已具备世界一流水平。到1990年代，我国的光刻机技术更是取得了惊人的突破，甚至吸引了外国企业前来洽谈合作。

　　然而，正是一次展览会的开放，揭示了我国光刻机技术的“软肋”。由于缺乏“知识产权”意识，