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　　爆出工程师涉嫌盗取2纳米制程技术机密，台湾检方经调查后，向法院申请羁押禁见3名涉案人员获准。由于台“科学及技术委员会”已将14纳米以下制程的IC制造技术纳入台湾核心关键技术清单，该委员会5日说，若窃取核心关键技术商业机密，依规将由检调侦办，并将加重刑责最高达12年有期徒刑、1亿元新台币罚金。

　　据报道，台“高等检察署”智财分署5日称，前员工陈姓男子与在职员工吴姓男子（已被解职）等人涉嫌非法取得商业机密，7月间发动侦查行动，依违反“国安法”向法院申请羁押禁见陈姓男子等3人获准。

　　5日称，经内部调查发现，有涉及商业机密泄露情况，已对涉事违规人员进行严厉惩处，“并采取相关法律行动”。

　　台“科学及技术委员会”5日晚间进一步说明，如果为境外窃取台湾核心关键技术的商业机密，由检调侦办不法外流情形，并加重刑责最高达12年有期徒刑、1亿元新台币罚金。

　　台湾《工商时报》称，由于本案发生于2纳米量产前的关键节点，业界普遍认为，这不只是单纯的内控违规，而是具明确目的性的商业间谍行为，恐对台积电技术优势等构成重大威胁。

　　报道称，此次事件波及台积电研发中心与新竹宝山Fab20厂区，涉案人员共9人，包括3名2纳米试产及6名研发支援部门工程师。该案最初是台积电侦测到异常流量，发现部分员工在居家远程工作期间，违规连入内部研发系统，并通过手机或外部装置截取并转发机密技术资料。

　　供应链消息称，外泄资料流向一名任职于日系设备公司的工程师，该人曾为台积电系统整合部门前员工，与研发团队仍保持密切联系。由于该日系外商为台积电重要的设备供应商之一，此事引发其总部高度关注，已派出高层与法务人员紧急进驻台湾，与台积电法务单位对接，全面清查资料来源、目的与影响范围。

　　有半导体业者分析，先进制程采用高度分工与模组化设计，单一站点资料难以复制整体制程，但若涉案者具备研发背景，并掌握2纳米合格率调校的关键参数与制程条件，就可能大幅缩短竞争对手的追赶时程，尤其对正积极发展2纳米的厂商而言，将成为重大突破口。

　　报道说，目前全球仅台积电、三星、英特尔与Rapidus4家企业持续投入2纳米开发，预计台积电最快将于2025年下半年启动量产。该制程技术属典型“核心关键技术”，一旦外泄，将改变全球芯片制程竞争格局。