K8（凯发中国）凯发-天生赢家·一触即发

　　在全球半导体领域中，荷兰ASML被称为全球芯片光刻技术的领导者，因为不仅是我们大陆晶圆厂要用它的光刻机，就连晶圆大厂台积电、三星、英特尔等都离不开它。

　　主要是光刻机是芯片制造过程中不可缺少的核心设备，荷兰ASML如今又是全球光刻机霸主，占据绝大部分市场份额。不过近日消息传来，大陆光刻机开始全面围攻了！

　　荷兰ASML到底有多厉害，以至于全球晶圆厂商基本都离不开它呢？大家可以看看下边的这个统计图片，从ASML的2024年的各类光刻机销量和市占率就能明白了。

　　最先进的EUV光刻机，只有ASML一家能够生产，独家垄断了100%市场份额，晶圆大厂台积电、三星、英特尔想要进行7nm及以下芯片制造，就离不开它的EUV。

　　再说次高端浸润式DUV光刻机，除了ASML，尼康还能生产，但去年年产量才4台。

　　还有干式DUV光刻机，尼康才出货7台。而ASML的ArFi和ArF这两类光刻机的市场占比分别达到了96.99%和80%。可以说，ASML基本垄断中高端DUV市场。

　　不仅传统光刻机领域，ASML在 GAA光刻 、电子束光刻 等新兴技术领域也保持领先。

　　然而，大家都知道，美方为阻挠我们芯片产业发展，2019年开始就阻挠EUV光刻机对会出货。当时，美方四次向荷兰政府施压，导致中芯国际买的一台EUV未能到货。

　　之后，美方严格限制EUV光刻机对华出口，甚至连外企在大陆建的晶圆厂也不能购买EUV。2022年开始，美方又扩大光刻机限制范围，进一步限制先进浸润式DUV。

　　没有ASML的EUV光刻机，我们就不能实现7nm及以下先进制程芯片，即使通过浸润式DUV能做出7nm甚至5nm，因为要多重曝光，会导致良率不高、成本过高。

　　再说，先进浸润式DUV也被纳入限制范围，所以我们除了自研国产光刻机别无出路。

　　当然，我们也不会坐以待毙，早就开始布局，近日消息传来，已从三条路线开始突围。

　　首先是纳米压印光刻技术路线。这方面技术一直以日本佳能较为领先，其最先进的纳米压印光刻设备线nm制程。不过，这个纪录被中企打破。

　　近日，国内企业璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备已经交付给国内特色工艺客户产线nm，能用于存储芯片等领域。

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　　其次是电子束光刻技术路线。近日，浙江大学研发团队推出我国首台国产商业电子束光刻机，命名为“羲之”， 精度0.6nm，线nm，用电子束在芯片上刻写电路。

　　值得一提的是，这个不是停留在PPT上，而是有了成品机，并且已经进入应用测试。

　　其主要用于制造量子芯片，以及高端芯片前期科研，因为电子束光刻机的优势是精度非常高，能够灵活修改设计无需掩膜版，缺点是效率不高，不适合大规模芯片量产。

　　再者是传统光刻技术路线。也就是继续研发ASML的传统光刻技术，从i-line到KrF，到干式ArF，到浸润式ArFi，再到EUV。目前，上海微电子就在这个路线上前进。

　　尽管上海微电子现在跟ASML的差距还很大，但从其官网公布的光刻机可以看出，已经能够做出ArF光刻机，接下来就是ArFi，据说正在攻坚，浸润式DUV也不远了。

　　接下来还有EUV，上海微电子不是孤军奋战，国内相关产业链都在努力攻坚相关技术。

　　不过，纳米压印和电子束这两种都有缺点，纳米压印重点用于存储芯片制造，电子束光刻主要用于量子芯片和高端芯片研发，我们还要继续努力，突破国产EUV光刻机。

　　对此，有外媒直接评价道，ASML快要坐不住了！大陆可是ASML重要出货市场，如今有3种路线开始围攻，并且已取得突破进展，一旦突破EUV，芯片战就结束了。