咨询电话： 13704000378
科技新突破丨新光刻技术面世 超越半导体制造业标准界限！
发布于 2026-03-03 21:27 阅读（）
日本冲绳科学技术大学院大学设计了一种新型极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。这项技术能让光刻设备使用较小的EUV光源，k8凯发集团降低了成本，同时提升了机器的可靠性并延长了其使用寿命。新设计使得功耗降低至传统EUV光刻机的十分之一，有助于推动半导体行业的可持续发展。
全球人工智能专利最大拥有国从2.49亿到6.02亿 我国AI用户实现跨越式增长
科技日报记者提问：聚力教育科技人才体制机制一体改革 全国政协在抓好贯彻落实中做了哪些工作？
新闻资讯
高清1080P在线观看平台_腾 TOP1 -
2 科技新突破丨新光刻技术面世 超 03-03
-
3
半导体设备阿斯麦光刻机光源技术 03-03 -
4
工艺进步光刻机效率提升阿斯麦新 03-03 -
5
EUV之后下一城！阿斯麦(AS 03-03 -
6
晶圆“吸氧”提升光刻效率ime 03-02 -
7
阿斯麦EUV光刻重大升级千瓦级 03-01 -
8 形势很严峻！中国光刻机全球份额 03-01
-
9
荷兰半导体专家：ASML花费4 03-01
