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ASML交付EXE：5200光刻机至imec助力亚2nm中试线研发迈新阶！
发布于 2026-03-24 20:34 阅读（）
比利时校际微电子研究中心（imec）近日宣布，其长期技术合作伙伴ASML已向其交付了一台高数值孔径极紫外光（High NA EUV）光刻系统——EXE:5200。这台设备将被部署在imec位于比利时鲁汶的总部，为亚2纳米（sub-2nm）制程的中试线项目NanoIC提供核心技术支持。
据介绍，EXE:5200是当前半导体制造领域最先进的光刻设备之一，其高数值孔径设计可显著提升光刻分辨率，为开发亚2纳米制程工艺奠定基础。imec与ASML的合作历史悠久，此前双方已在荷兰费尔德霍芬的ASML总部联合建立了High NA EUV光刻实验室，与全球半导体产业链伙伴共同推进下一代图案化技术的研发。
此次新设备的引入将进一步拓展imec的研发能力。机构方面表示，EXE:5200的加入不仅为实验室提供了更高的工艺自由度，还使其具备接近量产级别的技术验证条件，有助于加速亚2纳米制程从实验室到量产的转化进程。
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