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　　4月10日，浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室发布光学领域三大前沿成果——桌面式高亮极紫外光源、万通道3D纳米激光直写光刻机、桌面式极紫外光显微镜。

　　“三项成果分别能提供高亮稳定的极紫外光、‘快手’制造出高精度的光刻掩模版、‘锐眼’找出光刻掩模版上的纳米级缺陷。”浙大极端光学技术与仪器全国重点实验室主任刘旭说，这标志着我国在极紫外光学、超快激光、精密加工等领域达到了国际领先水平。

　　有业内专家表示，这套“手眼并用”的全链条方案，将直接支撑国产光刻工艺的良率提升，加速高端芯片的自主化进程。

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　　据介绍，当天发布的桌面式高亮极紫外光源，仅用一套桌面大小的光源系统，就能稳定产生高能量、高亮度的极紫外光，为我国极紫外掩模检测提供了关键技术支撑。过去，产生这种光源需要足球场大小的国家大装置，且稳定性、能量等都不可控，新技术相当于造了一个小巧但很强的“极紫外手电筒”，专门用来检测掩模版等光刻模具中的纳米级缺陷。

　　让国家大装置“走进”普通实验室的，还有桌面式极紫外光显微镜。该显微镜用算法代替光镜，变传统的“所看即所得”为“所算即所得”，且分辨率优于25纳米，能直接看芯片或材料的内部，相关参数均为国际领先。

　　万通道3D纳米激光直写光刻机则主要用于高端半导体掩模版制造，相当于制造芯片的“模具”。传统做掩模版只能用单束激光，加工速度难以满足高精度、大面积制造的产业化需求。新成果把单束激光变成上万束激光，加工速率可达每分钟42.7平方毫米，是传统双光子直写技术的几十倍，标志着我国在高精度微纳制造装备领域迈上了新的台阶。

　　接下来，浙大极端光学技术与仪器全国重点实验室将继续优化新成果，加速推动其产业化、社会化。