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　　2025年，哥伦比亚大学教授、美国知名经济学家杰弗里·萨克斯在接受央视《高端访谈》时，公开谈到中美科技竞争。

　　在很多西方媒体仍不断鼓吹中国芯片被卡死、中国半导体落后多年的背景下，他直言：遏制中国是荒谬的，也是徒劳的。

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　　如果把时间拉回过去七年，再看看中国半导体产业，尤其是中国光刻机的发展轨迹，你会发现：萨克斯说的，并不是一句客套话。因为现实正在证明美国的极限制裁，并没有让中国科技停下脚步，反而逼出了中国半导体产业最强的自主化进程。

　　在整个芯片制造流程中，光刻机被称为皇冠上的明珠。原因很简单。芯片制造，本质上就是在硅片上“刻电路”。而负责“刻”的设备，就是光刻机。

　　它的核心作用，是把芯片设计图，通过极其复杂的光学系统，缩印到晶圆上。制程越先进，对光刻机的要求越高。7nm、5nm、3nm背后，本质上都是光刻能力的竞争。

　　因此，谁掌握高端光刻机，谁就掌握全球芯片产业的话语权。目前全球最先进的EUV光刻机，长期由荷兰企业ASML垄断。

　　一台EUV光刻机，零部件超过10万个。背后涉及：德国蔡司的超精密镜头、美国的激光技术、日本的材料体系、欧洲的精密控制系统。整个产业链，几乎凝聚了西方工业几十年的积累。也正因如此，美国一直认为：只要卡住光刻机，中国芯片产业就无法线年开始，中国半导体进入生死局

　　2019年，是中国科技产业的重要转折点。这一年，美国开始对Huawei实施全面制裁。随后：芯片断供、EDA软件限制、高端GPU限制、半导体设备禁运、人才交流限制。接连出现。

　　很多人一提到中国光刻机，就会想到一句话：“中国还造不出EUV。”这句话只说对了一半。因为光刻机，并不只有EUV。目前主流光刻机主要分为：i-line、 KrF、ArF、ArF浸没式、EUV。

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