K8(凯发中国)凯发-天生赢家·一触即发

关于我们 联系我们

咨询电话: 13704000378

当前位置: 主页 > 新闻资讯 > 行业动态

半导体光刻清洗废气处理案例!

发布于 2026-06-29 19:50 阅读(

  

半导体光刻清洗废气处理案例

  该企业光刻、清洗工序产生大风量(50,000m³/h)、低浓度(500mg/m³)VOCs废气,主要成分为丙酮、异丙醇、乙酸乙酯等有机溶剂。若直接排放,年VOCs释放量超200吨,相当于数百辆汽车全年尾气排放量,不仅违反《挥发性有机物无组织排放控制标准》,还会加剧区域光化学烟雾污染。

  采用**“沸石转轮吸附浓缩+蓄热式热力氧化(TO)”**的定制化工艺,解决大风量低浓度VOCs处理能耗高的痛点:

  沸石转轮吸附浓缩:废气经预处理(过滤+除湿)后,进入疏水性沸石转轮,利用分子筛的择形吸附特性,将丙酮、异丙醇等极性VOCs精准捕获,实现废气15倍浓缩,风量从50,000m³/h降至3,333m³/h,大幅降低后续TO炉处理负荷。

  蓄热式热力氧化(TO):浓缩后的高浓度废气(浓度提升至7,500mg/m³)进入TO炉,在750℃高温下彻底氧化分解为CO₂和H₂O,净化效率达99%以上;TO炉内置蓄热陶瓷,回收95%热能用于预热进气,相比传统燃烧工艺节省40%天然气消耗。

  高吸附选择性:沸石转轮针对半导体行业常见VOCs(丙酮、异丙醇等)优化孔径结构,吸附容量是传统活性炭的3倍,且疏水性强,不易受废气中水分影响,使用寿命达2年(传统活性炭为6个月)。

  节能高效:TO炉蓄热陶瓷回收率超95%,单套设备年节省天然气成本超100万元;转轮吸附与TO燃烧联动控制,可根据废气浓度自动切换“吸附-脱附”模式,避免能源浪费。

  安全防爆:TO炉配备多重防爆系统(氮气保护、温度联锁、压力泄放),确保高浓度有机废气处理过程零事故,符合《石油化工企业设计防火标准》要求。

  项目通过第三方检测,非甲烷总烃排放浓度≤20mg/m³,满足天津市《工业企业挥发性有机物排放控制标准》(DB12/524-2014)最严限值;VOCs年排放量减少198吨,相当于植树造林1.5万棵的固碳量。企业每年节省VOCs处理成本超200万元,同时因环保技术领先,获得多家国际半导体巨头的“绿色供应链”认证,成为行业VOCs治理标杆。返回搜狐,查看更多凯发k8