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清华大学EUV光刻胶材料取得重要进展 新型聚碲氧烷光刻胶问世!

发布于 2025-08-02 23:16 阅读(

  

清华大学EUV光刻胶材料取得重要进展 新型聚碲氧烷光刻胶问世

  该研究提供了一种融合高吸收元素Te、主链断裂机制与材料均一性的光刻胶设计路径,有望推动下一代EUV光刻材料的发展,助力先进半导体工艺技术革新。相关成果发表于《科学进展》期刊。清华大学化学系2024级博士生周睿豪为论文第一作者,许华平教授为通讯作者,马克·奈瑟与谭以正为共同通讯作者。该研究得到国家自然科学基金重点项目的资助支持。

  目前,国际光刻胶巨头凭借长期的技术积累和市场优势,在高端光刻胶领域占据主导地位。这些企业不仅拥有先进的生产技术和设备,还具备强大的研发能力和丰富的市场经验。例如,日本JSR在光刻胶领域拥有超过50年的研发和生产经验,其产品涵盖了从g线、i线到KrF、ArF、EUV等全系列光刻胶。JSR每年投入大量资金用于研发,不断推出新产品,以满足市场对高端光刻胶的需求。此外,JSR还与全球主要的芯片制造企业建立了长期稳定的合作关系,进一步巩固了其市场地位。其他国际巨头如东京应化、信越化学、杜邦等也各自在光刻胶领域拥有独特的优势,形成了强大的竞争壁垒。清华大学的最新突破为国产半导体行业的发展打开新的大门,有望打破国际巨头在高端光刻胶领域的垄断,为我国半导体产业的自主可控发展提供有力支撑。

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  5月10日至11日,中美双方在瑞士日内瓦举行了经贸高层会谈。中方代表团表示,双方就彼此关心的经贸问题进行了深入交流。会谈氛围坦诚、深入且具有建设性,取得了实质性进展,并达成了重要共识

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