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璞璘交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻机支持<10nm 线宽!
发布于 2025-08-06 01:00 阅读()
IT之家 8 月 5 日消息,璞璘科技 PRINANO 今日宣布其在 8 月 1 日成功向一家国内特色工艺客户交付其自主研发的
璞璘在 PL-SR 系列设备上成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈,实现了纳米级的压印膜厚,达到了K8凯发官方网站平均残余层<10nm、残余层变化<2nm、压印结构K8凯发官方网站深宽比>7:1 的技术指标,可对应线nm 的 NIL 工艺。
璞璘科技表示其 PL-SR 系列喷墨步进式纳米压印设备目前已经初步完成存储芯片、硅基 (oS) 微显示器、硅光 (SiPh) 及先进封装 (AVP) 等芯片研发验证;其最小可实现 20mm×20mm 压印模板均匀拼接,最终可实现 12 英寸晶圆级超大模板。
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