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芯东来半导体取得光刻机主基板拓扑优化方法专利!

发布于 2025-08-23 12:40 阅读(

  

芯东来半导体取得光刻机主基板拓扑优化方法专利

  金融界2025年8月22日消息,国家知识产权局信息显示,上海芯东来半导体科技有限公司取得一项名为“一种用于光刻机主基板的拓扑优化方法”的专利,授权公告号CN118862598B,申请日期为2024年09月。

  天眼查资料显示,上海芯东来半导体科技有限公司,成立于2023年,位于北京市,是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本3649.635万人民币。通过天眼查大数据分析,上海芯东来半导体科技有限公司参与招投标项目9次,财产线条。

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