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　　国家知识产权局信息显示，华为技术有限公司申请一项名为“基于纳米片的器件的制造方法”的专利，公开号CN121100598A，申请日期为2024年4月。

　　专利摘要显示，本发明涉及基于纳米片的器件，尤其涉及全环绕栅极(gate all around，GAA)纳米片晶体管。本发明的GAA纳米片晶体管包括衬底层和堆栈，所述堆栈包括两个或多于两个栅极金属层和一个或多个沟道层，所述两个或多于两个栅极金属层和所述一个或多个沟道层沿第一方向交替堆叠在所述衬底层上。因此，每个沟道层在所述第一方向上由所述栅极金属层中的两个栅极金属层夹持。所述两个或多于两个栅极金属层中的顶部栅极金属层的长度小于所述两个或多于两个栅极金属层中的每个其它栅极金属层的长度，并且在所有所述栅k8凯发官网入口极金属层中，所述顶部栅极金属层到所述衬底层的距离最远。

　　天眼查资料显示，华为技术有限公司，成立于1987年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电k8凯发官网入口子设备制造业为主的企业。企业注册资本4104113.182万人民币。通过天眼查大数据分析，华为技术有限公司共对外投资了52家企业，参与招投标项目5000次，财产线条，此外企业还拥有行政许可1597个。

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