咨询电话: 13704000378
浙江征求意见:晶圆制造领域加速突破3-7nm制程 发展先进制程光刻机、刻蚀机等!
发布于 2026-01-13 08:27 阅读()
快科技1月12日消息,近日,浙江省经济和信息化厅发布关于公开征求《浙江省“十五五”新型工业化规划(征求意见稿)》意见的通知。
意见稿提到,新时代新征程,以中国式现代化全面推进强国建设、民族复兴伟业,实现新型工业化是关键任务。为扎实推进新型工业化,加快建设全球先进制造业基地,特制定本规划。规划期限为2026-2030年。
征求意见指出,芯片设计与制造领域,突破低功耗芯片设计,发展高端通用芯片、专用芯片、智能芯片等,开发第五代精简指令集架构芯片。
晶圆制造领域,加速突破3-7nm制程。关键材料领域,发展化合物半导体材料、电子气体、高纯靶材、光刻胶等。关键设备领域,发展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等。
封装测试领域,加快突破芯粒封装、三维异构集成封装、异质封装、脉冲序列测试等技术。新一代半导体领域,发展氧化镓、金刚石、碳化硅、氮化镓等。k8凯发官网入口
新闻资讯
-
寻找隐形冠军丨“纳米抛光”赋能 01-13
-
前沿科技赋能绿色制造2026武 01-13
-
浙江征求意见:晶圆制造领域加速 01-13
-
为什么现在越来越多中国人骂小米 01-12
-
特斯拉将打造自己的2纳米晶圆厂 01-12
-
新质引领 三足鼎立 01-11
-
客户覆盖国内外知名半导体厂商 01-11
-
美国放虎归山中微董事长恢复中国 01-11

