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　　国家知识产权局信息显示，奥斯帝亚技术有限公司申请一项名为“纳米多孔石墨烯膜”的专利，公开号CN121487790A，申请日期为2024年5月。

　　专利摘要显示，一种纳米多孔石墨烯膜制造方法使用在基底上打印可去除材料的牺牲性纳米柱的阵列并随后使石墨烯生长来构成。在连续沉积甚至不同性质的覆盖层之后，溶解牺牲性纳米结构，最终形成具有被设计和控制的纳米级尺寸和几何形状的纳米孔、通道和空腔的纳米多孔石墨烯膜，从而在例如过滤、电子和分子传感器的不同的技术领域中实现前所未有的独特的功能。

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