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台积电:2纳米工艺全面剔除中国大陆半导体设备!

发布于 2025-08-27 19:43 阅读(

  

台积电:2纳米工艺全面剔除中国大陆半导体设备

  美国拟议的《中国设备法案》(China EQUIP Act)明确禁止接受联邦资金的芯片制造商使用中国设备。台积电为确保亚利桑那州工厂的 1650 亿美元投资顺利获得美国补贴,必须严格遵守这一政策。为此,其 2nm 生产线已全面停用中微公司(AMEC)、Mattson Technology(屹唐股份子公司)等中国设备供应商的工具,尤其是在蚀刻、薄膜沉积等关键环节。这一调整从 2025 年 4 月 2nm 订单启动时即开始执行,高雄和新竹工厂的量产产线已完成设备替换。

  2nm 工艺采用的全环绕栅极(GAA)晶体管技术对设备精度要求极高,中国大陆设备尚未达到这一水平。以蚀刻环节为例,中微公司的 3nm 刻蚀机虽已通过台积电验证,但 2nm 工艺需要更先进的原子层蚀刻(ALE)技术,目前该领域仍由应用材料(Applied Materials)、泛林集团(Lam Research)等美企主导。台积电在 2nm 量产前已与这些供应商签订独家协议,确保设备供应安全。

  这种布局既规避了地缘政治风险,又能利用美国的能源补贴降低 2nm 工艺的高耗能负担。

  在 3nm 及之前制程中,台积电确实使用过中微公司的刻蚀机和 Mattson 的热处理设备。例如,中微的 5nm 刻蚀机曾用于苹果 A16 芯片生产,但进入 2nm 时代后,这些设备因无法满足 GAA 技术的精度目前尚未被使用。台积电目前仅在成熟制程(如 28nm)中保留部分中国设备。

  台积电 2nm 工艺在设备层面已完全排除中国大陆制造的半导体设备,这是技术迭代与地缘政治双重作用的结果。未来随着美国《中国设备法案》的落地,这一趋势将进一步强化。对于中国大陆半导体设备厂商而言,突破 2nm 设备技术壁垒,将是打破国际垄断的关键。

  台积电在国外的工厂全部亏损,就只有中国大陆工厂赚钱,然后拿去补贴国外工厂

  国内的台积电打压吧,反正中芯和华虹正好承接订单,几十亿的利润够它们壮大不少。虽然我一直不支持外企迁走[赞][赞][赞][赞]

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