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我国光刻胶领域研究取得新突破!
发布于 2025-10-31 05:00 阅读()
光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。
“显影”是光刻的核心步骤之一,通过显影液溶解光刻胶的曝光区域,将电路图案精确转移到硅片上。光刻胶如同刻画电路的颜料,它在显影液中的运动,直接决定电路画得准不准、好不好,进而影响芯片良率。长期以来,光刻胶在显影液中的微观行为是“黑匣子”,工业界的工艺优化只能靠反复试错,这成为制约7纳米及以下先进制程良率提升的关键瓶颈之一。
为破解难题,研究团队首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域。研究人员最终合成出一张分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”,一举克服了传统技术无法原位、三维、高分辨率观测的三大痛点。
彭海琳表示,冷冻电子断层扫描技术为在原子/分子尺度上解析各类液相界面反应提供了强大工具。深入掌握液体中聚合物的结构与微观行为,可推动先进制程中光刻、蚀刻和湿法清洗等关键工艺的缺陷控制与良率提升。
电子化学品产业是科技创新和国际竞争最为激烈的材料领域之一。我国作为全球最大的电子产品制造国,电子化学品市场规模具有千亿级,但高端产品自给严重不足,关键材料仍高度依赖进口。
为推动以湿电子化学品为核心的电子化学品制造水平提升和应用领域拓展,搭建产学研用深度融合的高质量合作平台,《中国化工报》社有限公司拟定于2025年11月20—22日在四川省富顺县举办“2025年湿电子化学品及电子气体高端发展会议”。
会议期间将对产业链上下游企业最新技术、特色产品等进行展示,大会配套提供展台。
行业专家、电子化学品生产企业及产业链上下游企业、电子气体生产企业、封装企业、晶圆企业等行业代表。
1.会议费2000元/人,配套企业3000元/人(含餐饮费、资料费、场地费等),交通费自理。
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