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傲迪特半导体取得半导体光刻胶高效清洁装置专利提高清洁效率!

发布于 2025-12-04 05:31 阅读(

  

傲迪特半导体取得半导体光刻胶高效清洁装置专利提高清洁效率

  国家知识产权局信息显示,傲迪特半导体(南京)有限公司取得一项名为“一种半导体光刻胶高效清洁装置”的专利,授权公告号CN223611839U,申请日期为2024年12月。专利摘要显示,本实用新型公开了一种半导体光刻胶高效清洁装置,k8凯发集团涉及光刻胶清洁技术领域,包括加热炉本体,加热炉本体内底面设置有滑板,滑板内部设置有丝杆,丝杆端部设置有第一电机,滑板上端部边缘处固设有支撑柱,支撑柱上端外侧周向固设有若干均匀分布的第一连接板,第一连接板端部固设有固定环,固定环内部设置有转动环,支撑柱上端内部设置有第二电机,第二电机驱动若干转动环同步转动,转动环内部设置有升降柱,支撑柱外侧套设有驱动环,驱动环旋转升降运动驱动若干升降柱同步垂直升降运动,转动环上端内侧用于卡合晶圆;本实用新型通过对批量晶圆旋转加热,使其背面光刻胶均匀受热膨胀脱落,提高清洁效率以及效果。

  天眼查资料显示,傲迪特半导体(南京)有限公司,成立于2007年,位于南京市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析,傲迪特半导体(南京)有限公司参与招投标项目2次,财产线条,此外企业还拥有行政许可10个。

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