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科技部109亿元下单上海微电子步进扫描式光刻机!

发布于 2025-12-26 04:42 阅读(

  

科技部109亿元下单上海微电子步进扫描式光刻机

  据了解,步进扫描光刻是一种混合光刻技术,结合了扫描投影光刻和分步重复光刻的优势。该技术通过动态扫描方式同步移动掩膜版和晶圆,标准曝光尺寸为26 mm×33 mm,k8凯发集团可增大曝光场并一次曝光多个芯片,其具备整个扫描过程的实时聚焦调节能力,适用于0.25μm以下的制造工艺,尤其在0.18μm节点及更先进工艺中广泛应用。

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