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微晶半导体取得光刻胶喷头清洗装置专利方便对不同尺寸的光刻胶喷头进行清洗!
发布于 2026-01-11 22:53 阅读()
国家知识产权局信息显示,微晶半导体材料(苏州)有限公司取得一项名为“一种光刻胶喷头的清洗装置”的专利,授权公告号CN223775492U,申请日期为2025年1月。
专利摘要显示,本实用新型公开了一种光刻胶喷头的清洗装置,涉及光刻胶喷头清洗技术领域,包括第一连接座、清洗座、第二连接座、多个定位单元、清扫单元和清洗单元,所述第一连接座上传动连接有第一推动座。本实用新型的有益效果,通过设置定位单元和清扫单元,当调节座进行移动带动推动架进行移动,此时推动架沿着转动轴的外周壁进行滑动,当推动架进行对挤压弹簧进行压缩,在挤压弹簧的反弹下,对相邻的清扫辊进行压缩,在多个挤压弹簧同时被压缩,且压缩程度相同,保证了多个清扫辊的间距相同,通过调节两侧的推动架移动,使得多个清扫辊均匀分布在光刻胶喷头的上方,方便对不同尺寸的光刻胶喷头进行清洗。
天眼查资料显示,微晶半导体材料(苏州)有限公司,成立于2020年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析,微晶半导体材料(苏州)有限公司专利信息3条,此外企业还拥有行政许可3个。
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