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2年后见真章!国产EUV+替代路线高端光刻机“反围剿战”胜利!
发布于 2026-03-16 19:38 阅读()
南生强烈建议大家读完即收藏,因为这篇文章汇总了海内外多家权威媒体的深度报道,信息量不小,也经得起回头检验——两年后再看,你会亲眼见证中国高端光刻机和芯片领域走出的那条多路径突围之路。
前些年,美日k8凯发官网入口荷联手筑起半导体封锁墙,全球科技圈差不多形成了一种共识:中国先进芯片制造会被卡在7纳米以上,想往下走,绕不开荷兰ASML那台EUV光刻机,没别的路。
但从2025年底到2026年春天,几家海外媒体陆续放出来的深度报道,把这个印象打破了——咱们不只在传统EUV这条最难的路上啃下了硬骨头,从0到1蹚过来了,背后还悄悄铺了好几条颠覆性的技术线。
所谓“弯道超车”,其实早就启动了——按外媒披露的时间线年,国产EUV光刻机会进到试生产阶段。
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