K8（凯发中国）凯发-天生赢家·一触即发

　　

　　众所周知，美国一直严防死守ASML的EUV光刻机，不准它以任何形式，任何方法进入中国（主要指中国大陆）。

　　因为EUV是用于5nm及以下芯片制造的，是属于真正的最核心的先进芯片设备了。

　　而美国想卡住中国的芯片产业，不能让中国制造5nm及以下的芯片，这样中国在先进芯片这一块，就只能依赖美国。

　　那么美国就可以向中国大量出口先进芯片赚钱，除此之外，还可以通过卡脖子等手段，来获得更多的政治利益之类的。

　　而在这样的情况之下，中国也在进行各种办法，破解这个难题，比如采用多重曝光技术，利用浸润式DUV光刻机，来进行5nm及以下的芯片制造。

　　毕竟浸润式光刻机之父林本坚一直称，浸润式光刻机，理论上做到3nm、2nm芯片都是可以的，保是多重曝光下，良率下降，成本上升。

　　事实上，中国在先进芯片制程上确实有突破了，目前14nm我们已经成熟是闰了，而7nm（N+2）也量产成功了，华为众多的最新的芯片，均是基于此工艺。

　　另外5nm芯片，也就是5nm-class（N+3）实际上也在进行试点优化，很快就可能会推出来，特别是有了韬定律之后，没有EUV也阻挡不住我们在先进工艺上的突破了。

　　按照规划，不需要EUV，基于韬定律，我们利用浸润式DUV光刻机，在2031年左右，我们也能达到台积电、in凯发k8tel、三星的1.4nm的水平。

　　近日，美国商务部长霍华德·卢特尼克在一系列会晤中，就向荷兰光刻机巨头ASML称，可能有一台极紫外（EUV）光刻机流入中国了。

　　他的意思其实是很清楚的，就是中国如果没有EUV光刻机，怎么可能在芯片制造技术上进步这么快，怎么可能会有突破，搞定了7nm，马上就要搞出5nm，未来甚至还要搞出1.4nm？

　　而对于美国的怀疑，ASML也是坚决否认这一指控，明确表示从未向中国交付任何EUV系统，也不会有任何的EUV光刻机进入中国市场。

　　可见，美国现在真的是急了，发现它的封锁，并没有让中国芯片产业陷入停滞，反而是越来越强，越来越厉害，不得不找其它借口，或者找一个背锅的，来掩饰自己的无能了。

　　接下来，就看中国芯片产业如何打美国的脸了，这一天，真的不久了，时间在我们这边，胜利的天平，也向凯发k8我们倾斜了。返回搜狐，查看更多