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数亿元融资+顶尖团队普雨科技开辟国产高端光刻设备突围新路径!

发布于 2026-03-14 07:40 阅读(

  

数亿元融资+顶尖团队普雨科技开辟国产高端光刻设备突围新路径

  近日,纳米公司招引项目,2024年领军和园区重大项目普雨科技(苏州)有限公司(下称“普雨科技”)完成数亿元融资。

  普雨科技股东阵容汇聚蓝驰创投、元禾原点、水木创投、启赋资本、零一创投、普丰资本一众知名财务投资机构,产业投资机构招商局创投,以及元禾控股、上海科创基金、科学城创投、国发创投多家政府投资平台。在“财务+产业+政府”多方协同赋能下,普雨科技已快速成长为国内纳米压印光刻设备领域的领军企业,为国产半导体设备突围开辟全新赛道。

  半导体产业的竞争,核心是高端装备的竞争。光刻作为芯片制造中技术最复杂、成本最高的核心环节,其成本占总生产成本的30%以上,生产周期占比更是接近50%。长期以来,我国在先进制程光刻设备领域受制于海外技术垄断,而纳米压印技术的兴起为打破这一格局提供了历史性机遇。

  与传统EUV光刻机相比,纳米压印设备不仅采购成本仅为前者的数分之一,更能降低制造成本40%,同时具备超高分辨率和低能耗的显著优势,被业界视为有望替代EUV的下一代光刻核心技术方向。当前,国际半导体设备巨头已推动纳米压印技术实现商业化突破,相关设备已导入海力士、铠侠等全球存储巨头,标志着该技术正式迈入产业化拐点。

  普雨科技创始团队深耕纳米压印与半导体设备领域多年,汇聚了一批在光刻技术、精密制造、半导体工艺及产业化落地等方向的资深专家,具备顶尖的技术研发实力、成熟的工程化经验与市场化开拓能力。

  公司已组建覆盖软硬件开发、精密工艺、机械设计、供应链管理及客户端交付的全链条精英团队。核心成员均来自国内外知名半导体设备企业,在高精度套刻、光刻精度、良率管控等关键技术领域拥有长期技术积累与量产落地经验,形成了从前沿技术研发到产业化落地的完整能力闭环。

  作为产业化落地的里程碑产品,普雨科技首台套纳米压印光刻设备已进入总装调试的关键冲刺阶段。该设备将率先落地AI与光互联这一战略高地,搭载多项自主研发核心技术模块,在对准精度、压印速率等关键性能指标上均达到领先水平,可广泛应用于下游多个场景。

  普雨科技(苏州)有限公司成立于2024年7月22日,公司位于苏州工业园区,成立同年,获评苏州工业园区领军与园区重大项目,是一家专注于纳米压印光刻设备研发、生产与产业化的高科技企业,致力于为集成电路、泛半导体行业提供优质微纳制造解决方案,是国产高端光刻设备领域的新锐领军力量。

  公司核心团队汇聚半导体设备领域资深专家,成员均来自国内外知名企业与高校,具备顶尖研发实力和丰富产业化经验,构建了覆盖全链条的研发与交付团队。目前已申请多项核心专利,涵盖纳米压印模板、设备控制等关键领域,技术壁垒持续提升。

  作为替代EUV的下一代光刻核心技术方向,公司纳米压印设备具备低成本、高分辨率、低能耗优势,制造成本可降低40%。首台套设备已进入总装调试阶段,关键性能指标达行业领先水平,率先布局AI与光互联领域,可广泛应用于多种泛半导体场景。

  普雨科技的发展填补了国内高端纳米压印光刻设备空白,打破海外技术垄断,依托苏州工业园区良好产业生态,加速技术产业化进程,为国产半导体装备突围开辟差异化赛道,助力我国半导体产业降本增效与自主可控发展。

  未来,普雨科技将紧抓纳米压印技术产业化关键窗口期,以“技术攻坚+产业落地”双轮驱动,加速核心设备迭代与规模化交付,为我国高端装备产业突破技术瓶颈、实现高质量发展注入自主创新动能,开辟差异化竞争新赛道。k8凯发官网入口k8凯发官网入口