K8（凯发中国）凯发-天生赢家·一触即发

　　

　　因为任何大规模的7nm以下的芯片制造，都离不开EUV光刻机，只有它能够实现低成本的，大规模的制造。

　　而EUV光刻机，全球只有一家企业能够制造，那就是荷兰的ASML，这让ASML处于整个半导体产业链的最顶端。

　　也正因为如此，所以全球众多的企业，都想研发出新的技术，来挑战甚至颠覆EUV光刻机。

　　比如日本佳能在搞的NIL纳米压印技术，就是想绕过EUV，制造5nm及以下的芯片，但说实话，纳米压印还制造不了复杂的，大规模的芯片，只能用于小批量的简单的芯片制造。

　　另外美国还有BEL电子束光刻技术，欧洲还有DSA自生长技术，俄罗斯甚至还搞了X射线技术，都是想绕过EUV的，但目前还没有谁成功了。

　　这家企业就是挪威的公司——Lace Lithography，它想用一种全新的叫做原子光刻（BEUV）的技术来挑战这一格局。

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　　这种技术与EUV不一样，它是直接采用一种宽度仅为0.1nm的氦原子束进行光刻。

　　宽度越小，那么分辨率就越高，大家想一想EUV的光线nm，而这种氦原子束的宽度仅为0.1nm，意味着可直接制造1nm以下芯片，都不需要多重曝光。

　　并且用这种原子光刻，无需传统的掩模和反射镜，甚至也不需要什么光刻胶，是直接在硅晶圆上进行图案化。

　　Lace甚至表示称，这种技术，领先当前EUV技术15年，是一种颠覆性的技术，它分辨率更高，成本更低、能耗更低，一旦实现，整个芯片产业，都向前跃进一大步。

　　但是，目前该技术当然没有量产，而Lace也只是一家初创企业，起步也不久，不过目前已经融到了近5000万美元作来研发。

　　Lace表示，目前已经研发了出了原型机，在2029年时会与晶圆厂合作进行测试。

　　不过对于这个所谓的技术，行业人士并不看好，觉得不过是噱头而已，因为利用原子直接光刻机，其功能会非常小，产能会非常有限，不可能用于大规模的芯片制造，不可能颠覆EUV。

　　但不管怎么样，在光刻机市场有着众多的挑战者，也能够给用户更多选择，不至于让ASML真正的一家独大。返回搜狐，查看更多