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泓光半导体申请顶部抗反射涂层组合物专利有效地抑制浸没式光刻中的水浸润缺陷!

发布于 2026-04-07 09:12 阅读(

  

泓光半导体申请顶部抗反射涂层组合物专利有效地抑制浸没式光刻中的水浸润缺陷

  国家知识产权局信息显示,福建泓光半导体材料有限公司申请一项名为“一种顶部抗反射涂层组合物及其制备方法和应用”的专利,公开号CN121759052A,申请日期为2025年12月。

  专利摘要显示,本发明属于半导体制造技术领域,具体涉及一种顶部抗反射涂层组合物及其制备方法和应用。所述顶部抗反射涂层组合物包括聚合物树脂、光致产酸剂和有机溶剂Ⅰ;所述聚合物树脂具有式(1)所示结构。本发明的关键在于设计并合成了一种具有特定结构的聚合物树脂,通过聚合物树脂结构中各单元结构的协同配合作用以及调控各单元结构在特定的比例范围内,不仅使得所形成的顶部抗反射涂层表面具有优异的超疏水性能,有效地抑制浸没式光刻中的水浸润缺陷,还提高了显影对比度,降低了线边缘粗糙度,同时确保顶部抗反射涂层具有优异的抗反射性能。

  天眼查资料显示,福建泓光半导体材料有限公司,成立于2019年,凯发k8天生赢家位于漳州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本25000万人民币。通过天眼查大数据分析,福建泓光半导体材料有限公司参与招投标项目22次,财产线条,此外企业还拥有行政许可50个。

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