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　　据韩国媒体《韩国先驱报》内容指出，美国实施的出口管制正在让中国加快自主先进光刻机的研发，但韩国汉阳大学材料学教授安振浩对此表示称：对于中国团队来说，展示一台他们自己研发的先进曝光设备是可能的，但是想要在10年内制造出足以商业化运行的设备，这基本不可能。

　　在实验室中进行技术演示，跟安装在生产线上面制造芯片，这是两个完全不同的概念。

　　韩国半导体工业协会董事安基贤指出，在7nm及以下节点，EUV技术是当下主流技术，也是不可或缺的技术，这个技术目前被荷兰ASML完全统治。

　　如果中国企业真的可以实现极紫外技术的本地化量产制造，那么这将会重塑全球芯片产业的格局，但是想要达到这一点是很困难的。

　　根据ASML公司发布的官方资料显示，ASML第一代EUV光刻原型机在2006年交付给比利时微电子中心以及纽约州立大学进行技术研究。

　　2010年，ASML制造出了NXE：3100光刻机。这是一台预生产的EUV光刻机，交付给了韩国三星的研究机构，让其对制造效率和良品率进行研究，为商业化做准备。

　　2012年，英特尔、三星、台积电这三家晶圆巨头以购买股权的方式为ASML注资，确保ASML有足够的资金去研发可商业化的EUV设备。

　　2016年，NXE：3400系列光刻机进行规模化量产，交付给三星、台积电等企业使用。

　　2019年，使用EUV光刻机制造的7nm芯片正式进入消费市场，首批搭载EUV工艺芯片的产品是三星note10系列，随后就是华为mate 20X 5G以及mate30系列的5G版本。

　　2020年12月，ASML官方宣布其制造的EUV设备已出货100台，ASML揭开了全球芯片制造的新技术时代。

　　ASML的零件供应商总共有5100家，来自于欧洲、北美、亚洲等全球各地区。

　　这些供应商将特定的零部件交付给ASML，由ASML负责将所有的零件拼装到一起，最后通过特定的工业软件让其稳定运行起来制造芯片。

　　ASML更像是一个方案整合商，负责将所有的零件拼凑在一起，形成一个可制造产品的整机设备。

　　ASML也同时负责EUV的销售以及售后服务工作，这也是ASML公司最强大的地方，只有这一家企业知道如何组装设备，知道如何维修设备，EUV光刻机完全就是寡头垄断的格局。

　　EUV光刻机是一个非常依赖全球供应链合作的技术项目，美国西盟公司提供极紫外光、德国通快公司制造发射极紫外光的发射器、德国蔡司公司制造EUV的整个曝光系统、日本企业负责提供涂覆晶圆的EUV光刻胶、ASML则是提供晶圆对准系统，并且负责整机的制造销售体系。

　　每一个环节都涉及到光学技术与硬件设备的紧密连接，还涉及到供应链之间的技术适配性，这也是ASML从2006年制造出EUV原型机，一直到2019年才正式进入商业化的主要原因。

　　韩国汉阳大学教授安振浩指出，像尼康、佳能这种老牌的光学工业巨头，也曾投入大量资源尝试过涉足EUV光刻机领域，但是从未成功过。

　　这个技术领域根本不是依靠蛮力就能进入的，你需要联合最顶级的供应链合作，然后经过数十年的技术积累去提升成功率。

　　对于被美国实施出口管制的中国团队来说，不能获得国际顶级供应链的支持，这是一个无法回避的难题。

　　尼康曾投入超过1000亿日元用于研发可商业化的EUV设备，但是直到2018年，尼康只有实验室内的原型机，无法将其进行商业化量产，最终宣告项目失败。

　　虽然尼康在EUV领域彻底出局，但是其在2016年发布了浸润式光刻机NSR-S631E，单次曝光制造28nm芯片，多次曝光制造7nm芯片，并且采用了气动轴承系统，提升了对准精度，尼康也因此成为了全球继ASML之后，第二家拥有先进浸润式光刻机制造能力的企业。

　　如今的光刻机市场格局已经变成了ASML一家独大，ASML掌控着EUV、浸润式等先进设备的市场统治权，总市场占比超过70%。

　　其次是佳能在KrF和i线设备领域实现了较高的市场份额，并且佳能还有纳米压印这个先进节点的设备。

　　而尼康虽然有浸润式光刻机，但是技术水平与ASML的差距较大，国际市场并不愿意主动采购尼康的浸润式。

　　现在尼康的光刻机业务萎靡严重，半年仅仅卖出9台设备，而且还都是制造成熟节点的产品，浸润式没有出货，亏损严重。

　　据王阳元、陈南翔、赵晋荣等人在科技导报上面发布的产业建议指出，中国的国产28nm浸润式光刻机已经进入了测试阶段，中微半导体的先进刻蚀机设备也已经进入了台积电7nm和5nm生产线，其他企业制造的国产设备均在生产线上实现了对部分海外设备的国产化替代。

　　目前国产光刻机已经推进到了浸润式技术的测试阶段，测试阶段需要做的事情就是提升其规模化制造的能力，在稳定性和经济性上面进行重点优化，将设备从能用阶段，转变为好用、稳用阶段。

　　在稳定国产浸润式光刻机的同时，还要聚集国内的尖端力量，推动国产极紫外光刻机的发展情况。

　　多年前，海外媒体并不认为中国企业能在被美国封锁下的前提下，制造出7nm芯片，也并不认为中国团队可以完成光刻机的整机制造。但事实证明，这些技术中国企业都已经完成了，正在对更加困难的技术发起挑战。