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四元数半导体申请光刻机对位方法等相关专利提高光刻机对位的精确度和可靠性!

发布于 2025-07-28 14:40 阅读(

  

四元数半导体申请光刻机对位方法等相关专利提高光刻机对位的精确度和可靠性

  金融界2025年7月28日消息,国家知识产权局信息显示,深圳市四元数半导体有限公司申请一项名为“光刻机对位方法、装置、设备及存储介质”的专利,公开号CN120370642A,申请日期为2025年06月。

  专利摘要显示,本发明涉及光刻机对位技术领域,公开了一种光刻机对位方法、装置、设备及存储介质。所述方法包括:对晶圆表面上预设的多个小尺寸对准标记进行图像采集和空间配准,得到虚拟大标记图像;分别采用紫外光源和红外光源,对所述虚拟大标记图像的目标区域进行双光源成像,得到紫外光图像组和红外光图像组;对所述紫外光图像组和所述红外光图像组进行多级模糊判别和空间感知双注意力处理,得到多层次优化特征集合;根据所述多层次优化特征集合执行引导滤波和自适应参数融合,得到最佳对位坐标,并基于所述最佳对位坐标驱动光刻机执行对位操作。

  天眼查资料显示,深圳市四元数半导体有限公司,成立于2022年,位于深圳市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析,深圳市四元数半导体有限公司专利信息3条,此外企业还拥有行政许可2个。

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