K8（凯发中国）凯发-天生赢家·一触即发

　　喷墨步进式纳米压印设备，已于8月1日顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。

　　这是中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统，攻克了步进硬板的非真空完全贴合、喷胶与薄胶压印、压印胶残余层控制等关键技术难题，可对应线nm的纳米压印光刻工艺。

　　光刻系统，其具有高效、高精度的压印功能，并具备拼接复杂结构的性能。它采用高精度的喷墨打印式涂胶方案，K8凯发还能辅助高精度的对准功能，可实现高精度拼接对准精度要求的纳米压印工艺。

　　璞璘科技自研的模板面型控制系统、纳米压印光刻胶喷墨算法系统、喷墨打印材料匹配，并搭配了自主开发的软件控制系统，成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈，在喷涂型纳米压印光刻材料方面实现重大突破。

　　＜10nm，残余层变化＜2nm，压印结构深宽比7:1的技术指标。

　　这一技术指标的实现，其难度与成本已与国际主流极紫外光刻（EUV）设备处于同一量级。璞璘科技认为，要突破纳米级对准这一卡脖子技术，必须整合产业链优势资源。