行业动态

光刻工艺的三要素光刻技术优缺点
　　光刻工艺的核心在于将掩模版上的图形精确转移到晶圆表面，其成功依赖以下三要素：　　补充：除三要素外，显影/刻蚀工艺（将光刻胶图形转为晶圆结构）...
2025-07-14 阅读（724）标签：半导体光刻技术
英国南安普敦大学开创电子束光刻新时代你知道这意味着什么吗？
　　　　英国南安普敦大学近日传来重磅消息：欧洲首座电子束光刻工厂即将正式启用，标志着全球第二座此...
2025-07-14 阅读（1001）标签：半导体光刻技术
芯恩（青岛）集成电路申请晶圆背面光刻工艺的曝光对准方法专利避免曝光对准失效或不同层之间套刻偏差变大
　　　　金融界2025年4月17日消息，国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司申请...
2025-07-14 阅读（950）标签：半导体光刻技术
无掩膜光刻中国团队发布新方案
　　K8凯发K8凯发　　中国科学技术大学Sun Haiding教授团队研发出垂直集成微尺度发光二...
2025-07-14 阅读（628）标签：半导体光刻技术
新毅东专利突破：光刻机温度控制电路如何引领芯片制造新革命？
　　　　近日，国家知识产权局公布了一项由新毅东（北京）科技有限公司申请的专利——“一种光刻机的温...
2025-07-14 阅读（1016）标签：半导体光刻技术