行业动态

芯恩（青岛）集成电路申请晶圆背面光刻工艺的曝光对准方法专利避免曝光对准失效或不同层之间套刻偏差变大
　　　　金融界2025年4月17日消息，国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司申请...
2025-07-14 阅读（869）标签：半导体光刻技术
无掩膜光刻中国团队发布新方案
　　K8凯发K8凯发　　中国科学技术大学Sun Haiding教授团队研发出垂直集成微尺度发光二...
2025-07-14 阅读（541）标签：半导体光刻技术
新毅东专利突破：光刻机温度控制电路如何引领芯片制造新革命？
　　　　近日，国家知识产权局公布了一项由新毅东（北京）科技有限公司申请的专利——“一种光刻机的温...
2025-07-14 阅读（910）标签：半导体光刻技术
晶合集成获得发明专利授权：“掩膜版结构和光刻方法”
　　K8凯发　　证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利...
2025-07-14 阅读（612）标签：半导体光刻技术
光刻机概念梳理+固态电池概念+核心科技国产替代龙头梳理
　　K8凯发官网平台入口K8凯发官网平台入口　　1.光刻机是芯片制造的核心设备，通过将设计好的电...
2025-07-14 阅读（771）标签：半导体光刻技术