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半导体核心基石实现突围光刻机国产化全面提速已打破海外长期垄断光刻作为晶圆制造核心关键工序正支撑我国半导体产业稳健发展半导体核心基石实现突围，光刻机国产化全面提速，已打破海外长期垄断，光刻作为晶圆制造的关键...
2026-04-30 阅读（688） 标签：半导体光刻技术 -
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半导体行业国产替代系列报告之三：掩膜版：光刻蓝本乘风起国产替代正当时掩膜版是光刻工艺的蓝本，是半导体生产制造的“关键耗材”。掩膜版是微电子制造领域中光刻工艺...
2026-04-28 阅读（806） 标签：半导体光刻技术 -
光刻机巨头意识到中国造不成光刻机但是要造一个工厂！近年来，在美国持续收紧对华半导体出口管制的背景下，荷兰光刻机巨头ASML的处境变得越发微...
2026-04-28 阅读（621） 标签：半导体光刻技术 -
【创新的高度——省科学技术奖一线观察】（二）追光者：光刻胶的河北力量冀时新闻报道 光刻胶是刻写芯片的 电子墨水，光刻胶关键材料则是墨水中决定清晰度、附着力、...
2026-04-27 阅读（740） 标签：半导体光刻技术
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恒坤新材：ArF光刻胶预计年内至2027年H1取得产业化进展直击业绩会 TOP1 -
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