行业动态

半导体工艺技术doc
　　　　光刻工艺是是化合物半导体器件制作中最常用的工艺，也是最关键的工艺之一；它是将掩膜版上的图...
2025-07-13 阅读（692）标签：半导体光刻技术
ASML推出全新光刻机推动极紫外光技术革新
　　　　在全球半导体行业持续发展的背景下，荷兰光刻机制造商ASML最近推出了一款全新的光刻机，此...
2025-07-13 阅读（639）标签：半导体光刻技术
芯片光刻流程详解
　　K8凯发K8凯发光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。现代刻划技术可以追溯到小时的日晒，透光部分的沥青明显变硬，而不透光部分沥青依然软...
2025-07-13 阅读（614）标签：半导体光刻技术
光刻技术发展史（光刻技术发展史图片）
　　　　光刻技术主要应用在微电子中。它一般是对半导体进行加工，需要一个有部分透光部分不透光的掩模...
2025-07-13 阅读（796）标签：半导体光刻技术
半导体前端工艺：第三篇光刻——半导体电路的绘制
　　金属-氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）的革命，让我们可以在相同面积的晶圆上同时制造出更多晶体管。MOSFET体积越小，单个 MOSFET的耗...
2025-07-13 阅读（659）标签：半导体光刻技术