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从“材料选择”到“功能定制”:光启技术让超材料从图纸走向规模化生产
董事长刘若鹏博士发表主旨演讲,首次系统披露我国超材料技术从实验室突破到产业化落地的全链条...
2025-12-07 阅读(688) 标签:半导体光刻技术 -
国产光刻机官宣新突破!荷兰先坐不住了求老美解除ASML“禁令”
近期,工信部公布消息称,我国DUV氟化氩光刻机技艺获重大突破,达到分辨率65nm,或可量产 28nm 工艺芯片。 然而就在前不久,荷兰光刻...
2025-12-07 阅读(840) 标签:半导体光刻技术
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