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被遗忘的三线传奇:中国光刻机曾与世界并肩为何痛失先机?
凯发k8凯发k8 当我们今天为芯片自主研发奋力攻坚时,很少有人知道,半个多世纪前的中国山沟...
2025-12-10 阅读(838) 标签:半导体光刻技术 -
华为申请基于纳米片的器件的制造方法专利实现每个沟道层在第一方向上由两个栅极金属层夹持
国家知识产权局信息显示,华为技术有限公司申请一项名为“基于纳米片的器件的制造方法”的专利...
2025-12-10 阅读(983) 标签:纳米制造技术 -
从无到优:中国光刻机双线破局或成为第三个可独立制造的国家
k8凯发集团k8凯发集团 在全球半导体产业中,光刻机无疑至关重要,长期被少数国家紧握手中,...
2025-12-09 阅读(695) 标签:半导体光刻技术 -
14nm级纳米压印光刻模板2027年量产
大日本印刷株式会社(DNP)今日宣布,成功研发出一款电路线nm的纳米压印光刻(NIL)模板。该新型模板可实现相当于1.4纳米制程的逻辑半导体图形化,...
2025-12-09 阅读(683) 标签:半导体光刻技术
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光刻机是干什么用的? 12-19
