K8（凯发中国）凯发-天生赢家·一触即发

　　

　　2026年3月，全国两会启幕前夕，一场来自中国半导体产业核心力量的集体发声，引发全球科技领域的高度关注。多位行业顶尖企业家与学者联名在《科技导报》官网发表《构建自主可控的集成电路产业体系 ——“十五五” 期间对中国集成电路产业发展的思考与建议》一文，明确提出“创立中国的ASML”的紧急倡议，为“十五五”期间中国集成电路产业突破瓶颈、实现自主可控指明方向。

　　此次联名建议的发布，具备无可替代的权威性与代表性，从发布平台到作者阵容，均彰显了中国半导体产业的最高共识。

　　发布平台《科技导报》是由中国科学技术协会主办的国家级权威学术期刊，深耕科技领域前沿研究与产业政策探讨，是我国科技界传递核心观点、建言献策的重要窗口，其发布的内容兼具学术严谨性与政策参考价值，绝非普通行业评论可比。文章发布于2026年3月4日，恰逢全国两会前夕，此时发声既呼应了国家对科技创新的高度重视，也为两会期间集成电路产业的政策讨论提供了重要参考，时机选择极具深意。

　　凯发k8天生赢家

　　更值得关注的是多位联名作者的阵容，涵盖学界泰斗与产业领军者，几乎囊括了中国集成电路产业上下游的核心力量，他们的联名发声，是产业界与学界的深度共识：

　　王阳元：北京大学集成电路学院名誉院长、中芯国际创始人之一，中国科学院院士，微纳电子学战略科学家、教育家。长期从事微电子学新器件、新工艺研究，主持研制成功我国第一块1024位MOS DRAM，领导建设了我国第一个国家级微米/纳米加工技术重点实验室，与海外同行创建中芯国际，为我国集成电路产业发展奠定了重要基础，累计培养数百名硕士、博士及博士后，获19项国家级和部委级奖励，发表论文300余篇，拥有130余项发明专利，是中国半导体产业的奠基者之一。

　　陈南翔：长江存储董事长，长江存储是我国存储芯片领域的龙头企业，打破了国外在3D NAND存储芯片领域的垄断，推动我国存储产业实现自主可控，陈南翔作为企业领航者，在存储芯片研发、产能扩张与产业链协同方面拥有丰富经验，深刻洞悉半导体产业的核心痛点与发展机遇。

　　赵晋荣：北方华创董事长，北方华创是中国半导体设备领域的核心企业，覆盖刻蚀机、薄膜沉积设备、清洗设备等关键领域，是国内半导体设备国产化的核心力量，赵晋荣带领企业突破多项设备技术瓶颈，推动国产设备进入主流晶圆厂，为我国集成电路制造环节的自主化提供了重要支撑。

　　刘伟平：华大九天董事长，华大九天是我国EDA（电子设计自动化）领域的龙头企业，EDA作为芯片设计的“摇篮”，是集成电路产业的核心支撑，华大九天已在模拟电路设计、存储电路设计等领域实现全流程覆盖，部分工具达到全球领先水平，刘伟平在EDA技术研发与产业化推广方面做出了重要贡献，推动国产EDA工具打破国外垄断。

　　魏少军：清华大学微电子所所长，长期深耕微电子学研究与人才培养，在芯片设计、半导体工艺等领域拥有深厚的学术积累，同时密切关注产业发展动态，为我国集成电路产业的政策制定、技术突破提供了重要的学术支撑，是学界与产业界衔接的重要桥梁。

　　严晓浪：浙江大学教授、博士生导师，我国集成电路领域资深专家，深耕EDA与处理器研究，曾任杭州电子工业学院院长，主持国家集成电路CAD系统攻关，获国家科技进步一等奖，推动自主CPU IP Core产业化，同时深耕半导体人才培养，搭建学界与产业界协同桥梁。

　　张兴：北京大学集成电路学院教授，中国电子学会半导体与集成技术分会副主任委员，深耕二维异质结界面热输运等领域研究，在半导体基础科研与技术突破方面成果显著，同时助力集成电路领域学术交流与人才培养，为产业自主化发展提供科研支撑。

　　于燮康：我国集成电路产业资深专家，曾任长电科技总经理、国家集成电路封测产业链技术创新战略联盟秘书长，推动长电科技跻身全球封测三甲，深耕封测产业与全产业链布局，为我国集成电路封测领域突破与区域产业集群建设提供重要支撑。

　　此外，联名作者还包括多位半导体领域的院士与资深专家，他们分别来自科研院所与产业一线，覆盖集成电路设计、制造、设备、材料等全产业链，形成了“学界+产业”的全方位视角，让这份建议更具针对性与可操作性。

　　这篇联名文章的核心亮点，的是明确提出“创立中国的ASML”的紧急课题，直指我国集成电路产业最核心的“卡脖子”环节——光刻机。文章中明确写道：“如何创立中国的 ASML，让‘被集成者’跳出‘名利’的藩篱，统一调度资金和人力资源，是有关部门应立即制定实施方案的紧急课题。” 这一表述，既是对当前产业困境的精准研判，也是对未来发展路径的清晰规划。

　　光刻机作为芯片制造的核心设备，被誉为“半导体产业皇冠上的明珠”，而荷兰ASML则是全球光刻机领域的绝对龙头，尤其在极紫外（EUV）光刻机领域，占据全球75%-80%的市场份额，垄断了先进制程芯片制造所需的核心设备供应。ASML的EUV光刻机包含10万个零部件，涉及5000家供应商，是全球产业链协同的集大成者，而美国通过出口限制，禁止ASML向中国出口EUV设备，直接制约了我国先进制程芯片的研发与生产。

　　文章指出，中国在EUV的激光光源、移动平台和光学系统等关键领域已经取得突破性进展，但如何“举国之力”将这些技术整合为完整产业体系，是“十五五”期间必须解决的问题。同时，文章也直面我国半导体产业“小、散、弱”、同质化内卷严重的现状——目前国内EDA企业逾百家，封测企业116家，晶圆制造设备企业185家，设计企业更是多达3626家，其中87.9%为人数少于100人的小微企业，大量公共资源被分散使用，难以形成与国际巨头抗衡的“集团军”。

　　因此，“创立中国的ASML”并非简单复制荷兰企业的模式，而是要通过举国体制整合全产业链资源，打破企业间的壁垒，统一调度资金、人才与技术力量，让各类“被集成者”跳出利益局限，形成协同攻关的合力，最终打造出属于中国的光刻机龙头企业，破解国外设备垄断，为我国集成电路产业的自主可控筑牢根基。此外，文章还提议，EDA和硅片领域也需国家层面统筹引导，建立共赢机制，同时加强基础研究、人才培养与国际合作，加速国产产品的国产化应用进程。

　　这份来自中国半导体核心力量的联名建议，一经发布便迅速引发国际主流媒体的广泛关注与报道，进一步印证了其真实性与重要性，也凸显了全球对中国集成电路产业发展的高度关注。

　　3月5日，全球知名通讯社路透社以头条形式刊发报道《Chinas top chip bosses urge supportive policies to create Chinas ASML》（中国顶尖芯片大佬呼吁出台支持政策，打造“中国版ASML”），报道重点解读了联名建议的核心内容，指出该建议呼吁在“十五五”期间通过国家层面的协同努力，开发可实际运行的光刻系统，展现出中国推动实现更高水平科技自立自强的政策方向。

　　同日，香港英文媒体《南华早报》（SCMP）也刊发相关报道，明确提及文章呼吁“举全国之力打造中国版阿斯麦”，并分析认为，这一倡议是中国应对美国科技封锁、突破半导体设备“卡脖子”的重要举措，反映出中国半导体产业“丢掉幻想，准备斗争”的坚定决心。

　　此外，印度《经济时报》（Economic Times）等多家国际财经媒体也纷纷转载相关报道，从全球半导体产业竞争格局的角度，解读中国此次联名倡议的战略意义，认为这将深刻影响全球集成电路产业的布局，中国若能成功打造本土光刻机龙头，将打破当前由欧美主导的半导体设备垄断格局，重塑全球产业链秩序。

　　值得注意的是，ASML自身近期也动作频频——其新一代高数值孔径EUV光刻机已具备量产条件，售价高达4亿美元，主要供应台积电、英特尔等国际芯片巨头，而受美国出口限制影响，ASML预计2026年中国市场销售额占比将从2025年的33%降至20%。在此背景下，中国半导体界呼吁打造本土光刻机龙头，更具现实紧迫性与战略必要性。

　　综合来看，这份联名建议的核心价值，在于它并非单纯的技术探讨，而是产业界与学界基于当前全球科技竞争格局，为国家提出的切实可行的政策建议。它清晰地传递出一个信号：核心技术买不来、要不来、讨不来，中国集成电路产业要实现自主可控，必须跳出“分散发展”的困境，以举国体制整合资源，聚焦光刻机等“卡脖子”领域，打造本土龙头企业。

　　从现实意义来看，创立中国版ASML，不仅能破解光刻机供应难题，更能带动上下游产业链的协同发展——从光学元件、激光光源到精密机械，每一个环节的突破都将推动我国半导体产业整体水平的提升，同时也能为我国AI、5G、汽车芯片等新兴领域的发展提供核心支撑，保障国家科技安全与产业安全。

　　此次产业核心力量的联合发声，某种程度上折射出中国半导体产业的发展进阶——当产业链各环节的核心参与者能够凝聚共识、主动为行业发展建言献策，背后是对产业发展的深层考量，亦是对关键技术突破的执着追求。而国际舆论的广泛关注，也从侧面反映出中国在半导体自主化道路上的探索与行动，已成为全球科技领域的重要观察点。

　　在全国两会聚焦科技创新的背景下，这份来自产业一线的联名建议，有望为“十五五”期间集成电路产业的政策制定提供重要参考。相信在国家政策的支持、产业力量的协同、科研人员的攻坚下，中国终将突破光刻机等核心设备的技术壁垒，打造出自主可控的集成电路产业体系，在全球半导体产业竞争中占据主动地位。

　　正如文章结尾所言：“既然核心技术买不来、要不来、讨不来，那就只能‘干出来’。中国芯，前进的道路上有落石、有陷阱、有荆棘，但没有任何障碍能够阻挡中华民族崛起的步伐。”