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半导体行业国产替代系列报告之三：掩膜版：光刻蓝本乘风起国产替代正当时掩膜版是光刻工艺的蓝本，是半导体生产制造的“关键耗材”。掩膜版是微电子制造领域中光刻工艺...
2026-04-28 阅读（797） 标签：半导体光刻技术 -
光刻机巨头意识到中国造不成光刻机但是要造一个工厂！近年来，在美国持续收紧对华半导体出口管制的背景下，荷兰光刻机巨头ASML的处境变得越发微...
2026-04-28 阅读（615） 标签：半导体光刻技术 -
【创新的高度——省科学技术奖一线观察】（二）追光者：光刻胶的河北力量冀时新闻报道 光刻胶是刻写芯片的 电子墨水，光刻胶关键材料则是墨水中决定清晰度、附着力、...
2026-04-27 阅读（735） 标签：半导体光刻技术 -
【中证快报】4月26日中证投资资讯 助力光刻机研发 我国建成新一代激光波长量子基准据央视新闻报道，为突破我国在光波长量子计量量值溯源关键技术瓶颈，实现该领域自主可控，市场...
2026-04-27 阅读（697） 标签：半导体光刻技术
新闻资讯
美国企图将光刻机技术全面垄断荷兰认清现实直接撕破脸反击 TOP1 -
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颠覆性技术有望改变未来五年尖端芯片制造方式 07-14 -
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行业导读_东方财富网 07-10 -
9 国内首条二维半导体工艺线纳米芯片 07-10
