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中国EUV光刻光源技术破冰 打破美企垄断迎来关键转折中国在极紫外（EUV）光刻核心技术领域取得历史性突破。2025年4月，中国科学院上海光学...
2025-07-06 阅读（692） 标签：半导体光刻技术 -
上海光机所EUV光刻技术获重大突破不再被美国“卡脖子”K8凯发 上海光机所在EUV光刻技术领域取得重大突破，国产芯片制造有望摆脱对国外技术的依赖...
2025-07-05 阅读（619） 标签：半导体光刻技术 -
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新闻资讯
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